Neon Gas (High-Purity)

High-Purity Neon Supply (Ukraine / diversifying)

🇺🇦
原材料🇺🇦 UA

市场份额

历史上约70%(乌克兰);目前正向美国/欧盟分散

核心产品

半导体级氖气(纯度≥99.999%)

瓶颈状态

🟡 2022年后供应链正在分散化

追踪供应链 →

供应至

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氖气是工业空气分离(主要发生在处理大量空气以提取氧气和氮气的大型钢铁厂)中回收的微量惰性稀有气体副产品。半导体级氖气在混入ArF准分子光刻系统的激光气体混合物之前,必须达到99.999%或以上的纯度。 在深紫外(DUV)光刻中,ArF准分子激光器发射193nm光,用于曝光14nm至7nm节点(多重图案化可至5nm)的晶圆光刻胶。激光气体混合物主要为氖气(约95–97%),含少量氩气和氟气。每个激光腔在运行过程中连续消耗和补充这种气体混合物。大批量半导体晶圆厂每年可消耗数百公斤高纯氖气。 2022年前,乌克兰两家公司——Ingas(马里乌波尔)和Cryoin Engineering(敖德萨)——合计供应全球估计45–70%的半导体级氖气,利用的是乌克兰大型钢铁工业富含氖气的尾气。2022年2月俄罗斯对乌克兰的全面入侵立即关闭了马里乌波尔工厂,并使敖德萨工厂面临风险,引发了供应冲击,几周内氖气现货价格飙升超过500%。 这场危机催化了美国(Air Products、Linde、Messer)、德国和其他国家对替代氖气纯化产能的快速投资。至2023年底,供应多元化已大幅降低单一国家风险,尽管对于尚未完全重新认证替代供应商的晶圆厂而言,乌克兰来源的氖气仍占市场相当份额。ASML的DUV系统——全球5nm至28nm之间生产的绝大多数芯片依赖于此——仍是半导体级氖气的主要需求驱动力。

关键路径 — 从原料硅到部署

原材料

Neon Gas (High-Purity)

半导体级氖气(纯度≥99.999%)

设备

ASML

EUV和DUV光刻系统